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X-선 광전자 분광기
AXIS Supra+XPS-UPS는 엑스선 혹은 자외선 조사에 의해 발생되는 광전자의 결합에너지 분석을 통해 시료 표면의 원소 유무 및 조성, 화학결합상태 등을 분석하는 장비
| 일련번호 | 5019 |
|---|---|
| 장비명 영문 | X-ray Photoelectron spectroscopy |
| 약칭 | XPS-UPS |
| 제작사 | Kratos Analytical |
| 모델명 | AXIS Supra+ |
| 도입년도 | 2025년 01월 08일 |
| 시설장비등록번호 | NFEC-2025-01-303086(ZEUS) |
| 보유기관 | 연세대학교 산학협력단 |
| 표준분류 | 화합물전처리/분석장비 > 분광분석장비 > 광전자분광기 |
| 활동범위 | 공동활용 |
| 활용대상 | 기관외부활용 |
| 예약방법 | 기관홈페이지,유선문의 |
장비 상세정보
주료 구성 및 기능
1. XPS
- X-ray source type : Al/Ag dual anode
- Maximum X-ray output : 600 W, 30 mA
- XPS range : < 1400 eV (with Al anode), < 2900 eV (Ag anode)
- XPS resolution : > 0.48 eV with PE10
2. UPS
- UV source type : He I UV source
- Maximum UV output : 17.5 W, 37 mA
- UPS range : < 21 eV
- UPS resolution : < 120 meV
- Sample bias : 0 to - 9 V
3. Ar gas cluster ion source (Ar GCIS)
- Ar+ and Ar1000+ ion
- Energy : 0.5 or 5 keV (for Ar+), 10 keV (Ar1000+)
- Maximum etch rate : 7.92 nm/min (Ta2O3 with Ar+, 5 keV)
이용안내
시험의뢰
이용안내
- 시료성상고체(파우더, 필름)
적용불가시료
액체 및 기체 혹은 이를 포함하는 시료, 강자성 시료 불가
활용사례
해당 장비는 인공 원소 등 일부 원소를 제외한 대부분의 원소에 대한 분석이 가능하기 때문에, 반도체, 이차전지 등 거의 모든 분야에 활용이 가능하다. 특히, 실제 화학반응에 참여하는 표면에 매우 민감한 분석법으로 표면의 조성 및 화학 결합 상태를 높은 정확도로 분석할 수 있으며, 이를 통해 소재 간 반응의 매커니즘 규명 및 예측하는데 활용할 수 있다.
이용료 안내
- 이용단가XPS=50,000원/시료, UPS=100,000원/시료 (옵션료 별도, 교내 기준)
- 추가비용소모품 개당 5,000원
기관/담당자 정보
- 보유기관명연세대학교 산학협력단
- 주소서울특별시 서대문구 연세로 50(신촌동) 연세대학교 F2층
- 담당자 연락처최영진 / 02-2123-7441
장비 위치안내
설치장소서울특별시 서대문구 연세로 50(신촌동) 연세대학교 F2층
문의전화02-2123-7441
활용 및 연구분야
비파괴적 표면 분석법으로 코팅, 도금과 같은 표면처리분야, 반도체분야, 촉매분야 등 다양한 고체시료 표면 물성 분석
사용 시 주의사항
서비스 의뢰만 받는 기기입니다. XPS 분석 절차 : 서비스 의뢰 예약 ⭢ 시료 도착 ⭢ 예약 승인 ⭢ 시료 도착 순서대로 실험진행 ⭢ 데이터 발송 ⭢ 실험완료 ⭢ 결제 전도성이 좋지 않은 시료는 UPS 측정이 적절히 일어나지 않을 수 있습니다."
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